Pattern Panóptico é unha proposta da artista Almudena Fernández Fariña pensada para osespazos do MARCO, que formula unha pintura fóra do formato pechado do “cadro”; unha pintura que busca o diálogo co contexto, que intenta ser cómplice da especificidade do lugar. Nesta peza é o espazo o que dita as pautas, os atributos formais, á pintura, que é totalmente dependente, indisociable do espazo que a contén. A arquitectura convértese en soporte da pintura, substituíndo o soporte do cadro/obxecto pechado, transportable e autónomo. Pero ademais do soporte, a arquitectura é tamén o obxecto de reflexión.

A intervención xorde a partir dunha forma atopada no espazo (a planta do Museo), convertida nun elemento-patrón que ao multiplicarse, seguindo un esquema compositivo predeterminado de simetría, rotación, repetición sistematizada, xera unha trama gráfica que tapiza a superficie do muro frontal do vestíbulo. Así, ademais de cuestionar os límites do cadro e apoiarse no ámbito mural da arquitectura, incídese na referencia apropiacionista, no recurso de adoptar un motivo atopado no espazo para vincular a pintura/debuxo ao contexto onde se incribe.

En Pattern Panóptico as pautas formais están marcadas polo deseño arquitectónico do edificio —un antigo cárcere— cuxa estrutura responde ao ideal deseñado por Jeremy Bentham en 1791: o Panóptico. O panóptico, concibido inicialmente para centros penitenciarios, faise visible, perde a súa utilidade (vixiar sen ser visto), convértese nun elemento ornamental que mostra e á vez disimula, nun deslizamento decorativo, a memoria do espazo.

Os motivos reproducidos sobre papel, cun proceso de impresión dixital, desmitifican o acto creativo asociado á pintura, e cuestionan a aurática presenza da man, a mestría e virtuosismo que tradicionalmente se asocia ao oficio do pintor.