Pattern Panóptico es una propuesta de la artista Almudena Fernández Fariña pensada para los espacios del MARCO, que plantea una pintura fuera del formato cerrado del “cuadro”; una pintura que busca el diálogo con el contexto, que intenta ser cómplice de la especificidad del lugar. En esta pieza es el espacio el que dicta las pautas, los atributos formales, a la pintura, que es totalmente dependiente, indisociable del espacio que la contiene. La arquitectura se convierte en soporte de la pintura, sustituyendo al soporte del cuadro/objeto cerrado, transportable y autónomo. Pero además del soporte, la arquitectura es también el objeto de reflexión.

La intervención surge a partir de una forma encontrada en el espacio (la planta del Museo), convertida en un elemento-patrón que al multiplicarse, siguiendo un esquema compositivo predeterminado de simetría, rotación, repetición sistematizada, genera una trama gráfica que tapiza la superficie del muro frontal del vestíbulo. Así, además de cuestionar los límites del cuadro y apoyarse en el ámbito mural de la arquitectura, se incide en la referencia apropiacionista, en el recurso de adoptar un motivo encontrado en el espacio para vincular la pintura/dibujo al contexto donde se inscribe.

En Pattern Panóptico las pautas formales están marcadas por el diseño arquitectónico del edificio —una antigua cárcel— cuya estructura responde al ideal diseñado por Jeremy Bentham en 1791: el Panóptico. El panóptico, concebido inicialmente para centros penitenciarios, se hace visible, pierde su utilidad (vigilar sin ser visto), se convierte en un elemento ornamental que muestra y a la vez disimula, en un deslizamiento decorativo, la memoria del espacio.

Los motivos reproducidos sobre papel, con un proceso de impresión digital, desmitifican el acto creativo asociado a la pintura, y cuestionan la aurática presencia de la mano, la maestría y virtuosismo que tradicionalmente se asocia al oficio del pintor.